Ussing Chamber系統概述
更新時間：2014-12-18
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Ussing Chamber系統:是一款特別設計的新式尤斯灌流室系統，包括單個獨立的尤斯灌流室（Ussing chamber）、用于控制溫度的加熱塊、用于調節氧化與氣升攪拌氣流的針形閥、用于測量跨上皮電壓和通過電流的Ag/AgCl參考電極及與電壓/電流鉗的連接導線。該系統易于使用并易于清洗。組織和細胞培養切片首先被放置在一個特別的固定夾片上，然后只需一插即可進到小室中的位置。不同于其他的系統，該小室不需要從加熱塊上取下，電極也不會受到擾動，等等。系統的價格根據所選灌流小室的數量和類型（見下面）而不同。
所有 EasyMount 系統可被依次連接以增加研究的組織數量。每個系統包括系統臺 （基座和加熱塊）、雙氣流閥單元、所選的小室和樣本夾片、電極及導線。
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